アルミニウムハニカム製の真空テーブル
アルミニウムハニカム製の真空テーブル
● 航空機用アルミニウムハニカム構造の真空テーブルは、0.2mm以下の平面度を保証します。
● 真空テーブルは安定した平坦な作業面を提供し、最適な精度と再現性を保証します。
説明
アルミニウムハニカム真空テーブルは、真空環境下で材料を正確かつ安定的に位置決めするための革新的で非常に効果的なソリューションです。軽量アルミニウムハニカム構造で作られた真空テーブルは、重量を最小限に抑えながら優れた剛性と耐久性を提供します。
仕様
| 最大サイズ （mm） | 4000x2100 | 厚さ （mm） | 25、35.5、42.5、53.5 |
| セクション穴（mm） | 1、1.5、2 | セクション穴間隔（mm） | 15、20 |
| パネル材 | 合金アルミニウム | インターフェースモード | フランジ、ネジ |
| トップシートの厚さ（mm） | 2 | 底板の厚さ（mm） | 2、3 |
| 空中突入 | F 30、 F 40、 F 50 | 平坦性（mm） | < 0.20 |
| 表面仕上げ | 硬質酸化、ミル仕上げ、 フッ素系コーティング | ハニカムコア | クロスドリル |
特徴
アルミニウムハニカムパネル製の真空テーブルトップには、以下のような多くの利点があります。
高い強度対重量比
そのため、精密切削・彫刻機、CNCルーター、その他同様の用途に最適なプラットフォームとなる。
高剛性
真空テーブルは安定した平坦な作業面を提供し、最適な精度と再現性を保証します。
広い表面積と高い平坦性
最大サイズは2100×3950mm（超過時は接続が必要）で、優れた平面度と10～20本のワイヤーのたわみを実現しています。30kgの追加荷重下でも、たわみ値は10本未満です。
圧力の優れた分散
均一で安定した空気の流れを提供することで、表面全体に圧力が均等に分布し、材料を保持するための非常に安定したプラットフォームが実現します。
応用
優れた品質と汎用性を備えたアルミニウムハニカム真空テーブルは、半導体製造、彫刻業界、電子機器、MEMS製造など、幅広い産業で広く使用されています。
半導体製造において、真空テーブルはウェーハ接合、薄膜成膜、および位置合わせプロセスに使用されます。
MEMS製造において、真空テーブルは接合およびパターニング工程に使用されます。
